光学膜厚仪的测量原理及结构

FM100-SE膜厚仪

产品简介：

膜厚仪主要用于光面基底上的透明、半透明薄膜样品进行常规测量，可得到单层或少数多层薄膜的膜厚，也可得到薄膜的光学参数（如折射率N、消光系数K等）；适用于工业和科研中的常规测量，可应用于多种薄膜镀层工艺中，如光学机械抛光、化学气象沉积、物理气相沉积、硅片涂胶工艺等。

性能特点：

1.快速测量：仅需1-2秒就可以完成一次测量

2.测量范围广：可测量膜厚范围从15nm-70um

3.简洁操作：常规操作，只需点击一个按钮就可完成操作

4.高效稳定：适用于工业现场，稳定可靠

5.经济实用：能够满足膜厚的常规测量，成本较低

光学机械组件：

1.光源：宽光谱光源

2.探测器：高灵敏度低噪音阵列式光谱探测器

3.控制箱：含电路板、控制单元、电源、光源

4.输出设备：软件界面支持输出、输入光谱数据库

技术参数：

光谱范围：370-1000nm

光谱分辨率：1.6nm

样品大小：典型晶盘圆尺寸12寸（即直径30mm）

测量光斑：1.5nm

膜厚测量范围：15nm-100um

膜厚层数：1-4层

膜厚测量重复性：0.1nm

准确度：2nm

单次测量时间：1-2秒，与测量设置和样品性质有关