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光学膜厚仪的测量原理及结构

浏览次数:80发布日期:2020-09-21

FM100-SE膜厚仪

产品简介:

膜厚仪主要用于光面基底上的透明、半透明薄膜样品进行常规测量,可得到单层或少数多层薄膜的膜厚,也可得到薄膜的光学参数(如折射率N、消光系数K等);适用于工业和科研中的常规测量,可应用于多种薄膜镀层工艺中,如光学机械抛光、化学气象沉积、物理气相沉积、硅片涂胶工艺等。

性能特点:

1.快速测量:仅需1-2秒就可以完成一次测量

2.测量范围广:可测量膜厚范围从15nm-70um

3.简洁操作:常规操作,只需点击一个按钮就可完成操作

4.高效稳定:适用于工业现场,稳定可靠

5.经济实用:能够满足膜厚的常规测量,成本较低

光学机械组件:

1.光源:宽光谱光源

2.探测器:高灵敏度低噪音阵列式光谱探测器

3.控制箱:含电路板、控制单元、电源、光源

4.输出设备:软件界面支持输出、输入光谱数据库

技术参数:

光谱范围:370-1000nm

光谱分辨率:1.6nm

样品大小:典型晶盘圆尺寸12寸(即直径30mm)

测量光斑:1.5nm

膜厚测量范围:15nm-100um

膜厚层数:1-4层

膜厚测量重复性:0.1nm

准确度:2nm

单次测量时间:1-2秒,与测量设置和样品性质有关

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